首台国产AMOLED G6湿法刻蚀设备顺利下线
责任编辑:Lillian 作者:晶洲装备 2018/4/25 14:41:03 浏览:2223 产品

2018年4月24日,首台国产AMOLED G6湿法刻蚀设备在苏州晶洲装备科技有限公司生产车间顺利下线。


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在平板显示领域,由于国内相关产业发展晚于日韩等企业,国外的技术垄断与封锁等原因,造成该领域的前、中段生产设备主要仍由国外企业垄断。此次晶洲AMOLED G6设备顺利下线,宣告晶洲再次打破国外垄断,是平板显示领域湿法装备国产化的新高度。

晶洲自2011年公司成立之初就布局平板显示行业,并不断取得突破:

2012年,首台G2.5蚀刻脱膜设备下线;

2013年,国产第一台G4.5 TFT湿法刻蚀设备交付客户并通过验收;

2014年,AMOLED G5.5湿法刻蚀设备顺利交付客户;

2015年,为国内某客户定制的G4.5镀膜前清洗机交付验收;

2016年,G5.5蒸镀前清洗机顺利下线;

2017年,G6湿法刻蚀设备,湿法剥离设备,G4.5 湿法刻蚀设备,G4.5高精密清洗设备等项目相继展开;

2018年4月24日,继G4.5设备先后下线交付,首台国产AMOLED G6湿法刻蚀设备顺利下线。

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4月24日,常熟市辛庄镇党委书记芮卫国、副书记龚强,以及股东代表——阿特斯阳光电力集团光伏组件事业部总经理邹敏亲临现场,一起见证晶洲这一重要时刻,对晶洲连续取得重大突破表示祝贺,同时鼓励晶洲大胆创新,为光伏、平板显示、半导体等行业的湿制程设备、自动化设备、环保设备国产化做出更大成绩。

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